Črt Saksida iz 4.b tudi v letošnjem letu ostaja med najboljšimi kemiki.

Njegova  raziskovalna naloga Obrazne maske kot zaščita pred trdnimi delci v zraku, ki je na državnem tekmovanju  lansko leto dosegla zlato priznanje, je bila izbrana za sodelovanje na mednarodnem sejmu znanosti in tehnike (Regeneron ISEF), ki bo v začetku maja potekal v Atlanti, ZDA.

Poleg tega se Črt pripravlja tudi za vstop v ekipo za tekmovanje na kemijski olimpijadi v Pekingu na Kitajskem.

Že na prvem izbirnem testu je dosegel najboljši rezultat v državi.

Čestitke in držimo pesti, da bo tako uspešen še naprej!