Naš dijak Črt Saksida iz 4.b razreda je na največjem mednarodnem sejmu znanosti in tehnike (ISEF) predstavil svojo raziskovalno nalogo  z naslovom Obrazne maske kot zaščita pred trdnimi delci (Face mask protection against particulate matter).

Dogodek je v prvi polovici maja 2022 potekal v Atlanti,  ZDA . Črt je raziskovalno delo opravil na  Kemijskem inštitutu v Ljubljani že v lanskem letu, letos pa se je na ISEF uvrstil kot eden izmed dveh predstavnikov Slovenije.

V Atlanti je projekte predstavljalo 1748 finalistov iz mnogih držav in v različnih kategorijah znanosti, tehnologije, inženirstva in matematike. 

Projektov se ni predstavljalo na klasičen način. Vsak tekmovalec je imel svojo stojnico. Med stojnicami so hodili sodniki in se s tekmovalci pogovarjali. To je bila za Črta prva velika mednarodna izkušnja, saj je dobil občutek, kako je biti v konkurenci z mladimi raziskovalci iz celega sveta.